半導体フォトマスク、日本勢に商機 1.4nmや高NAに照準
半導体フォトマスクの日本の大手企業が最先端プロセスに向けた技術開発を加速させている（出所:トッパンフォトマスク）半導体フォトマスクの日本の大手企業が、2nm世代の次を見据えた技術開発を本格化する。大日本印刷（DNP）や、TOPPANホールディングス傘 ...